イベント

先進パワー半導体分科会第12回講演会

期間：

2025年11月19日 (水)～20日 (木)

開催国：

日本

開催場所：

富山国際会議場(富山県富山市)

形態：

企業展示

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第39回ダイヤモンドシンポジウム

期間：

2025年11月12日 (水)～14日 (金)

開催国：

日本

開催場所：

東京理科大学　野田キャンパス　7号館講堂 (千葉県野田市)

形態：

企業展示

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第54回結晶成長国内会議 (JCCG-54)

期間：

2025年11月11日 (火)～13日 (木)

開催国：

日本

開催場所：

金沢商工会議所会館 (石川県金沢市)

形態：

企業展示

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The International Conference on Silicon Epitaxy and International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI/ISTDM 2025)

期間：

2025年11月10日 (月)～13日 (木)

開催国：

日本

開催場所：

東京科学大学 すずかけ台キャンパス (神奈川県横浜市)

形態：

企業展示・学会発表

題名 (発表1)：

Analysis of key factors affecting selectivity and conformality of lateral Si/SiGe stack etching

発表者 (発表1)：

Anton Kobelev (STR Belgrade)

題名 (発表2)：

Growth Kinetics and Thickness Uniformity During 200 mm Ge Epitaxy in Horizontal Flow Reactor

発表者 (発表2)：

Andrey Smirnov (STR Belgrade)

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第38回計算力学講演会

期間：

2025年9月24日 (水)～26日 (金)

開催国：

日本

開催場所：

信州大学　工学部 (長野県長野市)

形態：

学会発表

発表者：

向山　祐次 (STR Japan)

題目：

MPCVD法によるダイヤモンドエピタキシャル成長の数値解析

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International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM 2025)

期間：

2025年9月14日 (日)～19日 (金)

開催国：

Korea

開催場所：

BEXCO, Busan

形態：

企業展示

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第86回応用物理学会秋季学術講演会

期間：

2025年9月7日 (日)～10日 (水)

開催国：

日本

開催場所：

名城大学　天白キャンパス (愛知県名古屋市)

形態：

企業展示

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21st International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-21)

期間：

2025年8月3日 (日)～8日 (金)

開催国：

China

開催場所：

Xi'an Qujiang International Conference Center

形態：

企業展示・学会発表

題名 (1)：

3D Modeling of 300 mm Cz Si Growth in an Asymmetric Furnace with Applied Horizontal Magnetic Field

発表者 (1)：

Aleksa Crnobrnja (STR Belgrade)

題名 (2)：

Resistivity Uniformity Analysis in FZ Si Growth Using 3D Modeling

発表者 (2)：

Petar Jovanovic (STR Belgrade)

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24th American Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ACCGE-24) and 22nd US Workshop on Organometallic Vapor Phase Epitaxy (OMVPE-22)

期間：

2025年7月13日 (日)～18日 (金)

開催国：

USA

開催場所：

Stevenson, Washington

形態：

企業展示

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15th International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-15)

期間：

2025年7月6日 (日)～11日 (金)

開催国：

Sweden

開催場所：

Clarion Hotel & Congress Malmö Live (Malmö)

形態：

企業展示・学会発表

題名 (1)：

Limitations of distributed polarization doping using in AlGaN-based deep-ultraviolet laser diode structures by their cracking during growth

発表者 (1)：

Mikhail Rudinsky (STR Belgrade)

題名 (2)：

Effect of Current Spreading on the Operation of Nitride-Based Broad-Area Stacked Laser Diodes with a Tunnel Junction

発表者 (2)：

Olga Soboleva (STR Belgrade)

題名 (3)：

Effect of light polarization on light extraction efficiency of deep-ultraviolet light-emitting diodes

発表者 (3)：

Kirill Bulashevich (STR Belgrade)

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International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology 2025 (CS ManTech 2025)

期間：

2025年5月19日 (月)～22日 (木)

開催国：

USA

開催場所：

Hilton New Orleans Riverside

形態：

企業展示

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18th International Conferene on New Diamond and Nano Carbons (NDNC 2025)

期間：

2025年5月11日 (日) ～15日 (木)

開催国：

日本

開催場所：

ビーコンプラザ (大分県別府市)

形態：

展示ブース・学会発表

発表者：

向山 裕次 (STR Japan 株式会社、技術部)

題目：

Experimental and Numerical Analysis of Growth of Heteroepitaxial Diamond Using the MPCVD Method

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Hasselt Diamond Workshop 2025

期間：

2025年3月19日 (水)～21日 (金)

開催国：

Belgium

開催場所：

cultuurcentrum Hasselt (ccHa), Hasselt

形態：

企業展示・学会発表

発表者：

Ivan Petras (STR Belgrade)

題目：

Improved Uniformity of Diamond Growth Through the Modeling of MPCVD on the Large Area Substrates

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第29回結晶工学セミナー・第9回インフォマティクス応用研究会
「結晶工学におけるシミュレーション・インフォマティクスの基礎と応用」

期間：

2025年2月20日 (木) 10:00～17:00

開催国：

日本

開催場所：

上智大四谷キャンパス2号館410号室（東京都千代田区）＋ ZOOM でのオンライン

形態：

学会発表

発表者：

向山 裕次 (STR Japan 株式会社)

題目：

結晶成長プロセスにおける熱・物質輸送の数値解析

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