STREEM

エピタキシャル成長中の応力・歪み解析

Modeling of strain and stress during epitaxial growth process

リリースノート

STREEM 製品紹介ページを公開しました。

製品概要

STREEMは、MOCVD法によるIII族窒化物エピタキシャル成長中において、ヘテロ構造内で発生するさまざまな物理現象を数理モデルに基づいて総合的に解析できるシミュレーションソフトウェアです。
ヘテロ構造の特性およびデバイス性能に直結する成長条件の最適化や構造設計の検討において有効です。
また、STREEMは成膜材料や解析の目的に応じて、以下二つのエディションが用意されています。

■ InGaN edition

青色/緑色LED向けInGaN/GaN量子井戸を含むヘテロ構造において、ヘテロ構造内で生じる表面偏析を考慮したインジウム組成分布や、格子不整合に起因する歪み・応力、V字転位形成による応力緩和などをシミュレーションにより予測することができます。

InGaN edition製品紹介ページへ

InGaN/GaN量子井戸内のインジウム組成分布
格子緩和した場合の量子井戸内インジウム組成分布

■ AlGaN edition

深紫外LEDやHEMT向けのAlGaN/GaNヘテロ構造において、ヘテロ構造内の温度分布や格子不整合に起因する歪み・応力、構造の反り・曲率、貫通転位の発生や傾きによる応力緩和、さらにはクラックの発生までを、シミュレーションにより予測することができます。

AlGaN edition製品紹介ページへ

エピタキシャル成長中の応力変化

動作環境

GUI (計算条件設定、計算結果出力) :Windows OS
8GB RAM, Windows 10, 11 Professional 以上